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Tender

Bando Procedura aperta

Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Stazione appaltante
Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia
Luogo
Genova (GE), Liguria
Settore
Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici
Pubblicata
31 lug 2026
CIG
BC909371FE

Scaduta il 1 ott 2026: le offerte non si accettano più. Gli atti restano consultabili qui sotto.

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I dati della gara

La gara

Tipo di atto
Bando
Oggetto
Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Luogo
Genova (GE), Liguria
Natura
Forniture
Procedura
Procedura aperta
Importo a base di gara
680.000 €, aggiudicazione all’offerta economicamente più vantaggiosa
Settore
Settori ordinari

Tempi e partecipazione

Pubblicata il
31 luglio 2026
Scadenza
1 ottobre 2026
Si partecipa su
AcquistiTelematici
CIG
BC909371FE

L’ente

Stazione appaltante
Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia
Codice fiscale dell’ente
97329350587
Indirizzo
Via Morego 30 16163 Genova
PEC
amministrazione@pec.iit.it

Codici

Codice CPV
38970000: Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici
Codice ISTAT
010025
NUTS
ITC33: Genova

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Non siamo l'autorità: il bando ufficiale è quello pubblicato dalla stazione appaltante, e prima di presentarti va letto lì.
Dato di Polyfacto Tender, aggiornato il 07/10/2026 09:28.